高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

①　极限真空度高；

②　控温精度高；

③　更高的升温速率；

④　更加智能化；

⑤　可真空去除产品空洞与气泡；

⑥　降低产品的氧化性；

⑦　提高工艺室的洁净度。

真空除气储存柜的使用

1、真空除气装置，真空除气炉报价，在抽真空之前放置好产品、关闭箱室门，然后启动抽真空，加热系统持续不间断渐热。真空除气炉公司，真空除气装置生产厂家，达到设定真空度时，保持加热并持续保持真空度，设定工艺完成后，自动停止抽真空，加热系统关闭。当进入维持真空模式时，低于下限的时候自动启动；（启动为抽真空、停止为停止真空泵工作、解压为需要把真空破空）

2、真空度设定操作见操作说明书，用不到的功能禁止调整。

3、试验时间完成后，自动破空，破空完成后，方可开门取出产品。

真空除气储存柜维护要求

真空除气储存柜，真空除气装置哪家好，又称真空存储箱，用于各类金属材料，化工原料，半导体芯片、电路板、电子器件，电池片、电池材料等其他易氧化材料的真空存储，防潮、防氧化。也可用于胶水的真空脱泡、除气等作用，经常在真空灌胶消气泡的工艺过程中应用。

1、放入需要保存的产品，快速抽真空到极限真空，真空除气装置，可能逐渐回压到一个平衡值，长期保存；

2、放入保存的产品后，启动程序，快速抽至真空下限值，持续保压如箱内回压到上限值之后，会自动启动抽真空至下限值；

3、抽真空至下真空度后，自动充入氮气至常压，在无氧环境下保存产品。

为了提高空间的利用率，通常可以分为两腔，三腔，真空除气装置品牌，四腔，六腔体等等。根据产品的存放要求，存放时间和工艺产线要求，程序可以做不同的调整。